Hochschulschrift
Darstellung von sulfonsäurehaltigen Membranen durch plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung - PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)
- Location
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Dimensions
-
21 cm
- Extent
-
V, 133 S.
- Language
-
Deutsch
- Notes
-
Ill., zahlr. graph. Darst.
Erlangen, Nürnberg, Univ., Diss., 1999
- Keyword
-
Sulfensäurederivate
Dünne Schicht
PECVD-Verfahren
- Creator
- Table of contents
- Rights
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Last update
-
11.06.2025, 1:54 PM CEST
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Object type
- Hochschulschrift
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Plasmaunterstützte Gasphasenabscheidung (PE-CVD) von Multifunktionsschichten aus dem Precursorensystem Hexamethyldisiloxan/Sauerstoff
Oberflächenmodifizierung von Kohlenstofffasern und organischen Membranen mittels Gasphasenabscheidung
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Simultaneous synthesis of nanodiamonds and graphene via plasma enhanced chemical vapor deposition (MW PE-CVD) on copper
Plasmagestützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) von siliziumoxidhaltigen Haftvermittlerschichten auf Ti15V3Cr3Sn3Al- und Ti6Al4V-Legierungen bei Atmosphärendruck : = Plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) of organosilicon films for adhesion promotion on Ti15V3Cr3Sn3Al- and Ti6Al4V alloys at atmospheric pressure
Chemical vapor deposition : CVD
Bulk hydrogenation in mc-Si by PECVD SiNx deposition only
Modeling for Chemical Vapor Deposition
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