In situ growth optimization in focused electron-beam induced deposition

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource

Erschienen in
In situ growth optimization in focused electron-beam induced deposition ; volume:4 ; pages:919-926
Beilstein journal of nanotechnology ; 4, 919-926

Klassifikation
Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau

DOI
10.3762/bjnano.4.103
URN
urn:nbn:de:101:1-2014052315029
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
2025-08-14T10:59:49+0200

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