Hochschulschrift

Agent based diagnostic system for the defect analysis during chemical mechanical polishing (CMP)

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
ISBN
9783936947649
3936947643
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch
Anmerkungen
Zugl.: Stuttgart, Univ., Diss., 2005

Erschienen in
IPA-IAO-Forschung und Praxis / Fraunhofer-Institut für Produktionstechnik und Automatisierung ; Nr. 421

Klassifikation
Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau
Schlagwort
Wafer
Chemisches Polieren
Prozessüberwachung
Defekt
Diagnosesystem
Mehragentensystem
Mehragentensystem ; Diagnosesystem ; Chemisches Polieren ; Polieren ; Defekt ; Technischer Fehler ; Agent ,Agent

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Heimsheim
(wer)
Jost-Jetter
(wann)
2005
Urheber
Kumar, Akhauri Prakash
Beteiligte Personen und Organisationen

URN
urn:nbn:de:bsz:93-opus-23777
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
15.08.2025, 07:19 MESZ

Datenpartner

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

Beteiligte

Entstanden

  • 2005

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