- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Maße
-
30 cm
- Umfang
-
84 S.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Ill., graph. Darst.
Bonn, Univ., Diss., 1995 (Nicht für den Austausch)
- Schlagwort
-
Röntgenlithografie
Photoresist
Polymethylmethacrylate
Strahlenchemie
- Urheber
-
Wollersheim, Olaf
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 14:02 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Wollersheim, Olaf
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