All‐Around Universal and Photoelastic Self‐Healing Elastomer with High Toughness and Resilience
- Standort
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
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Online-Ressource
- Sprache
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Englisch
- Erschienen in
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All‐Around Universal and Photoelastic Self‐Healing Elastomer with High Toughness and Resilience ; day:18 ; month:10 ; year:2021 ; extent:12
Advanced science ; (18.10.2021) (gesamt 12)
- Urheber
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Tolvanen, Jarkko
Nelo, Mikko
Hannu, Jari
Juuti, Jari
Jantunen, Heli
- DOI
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10.1002/advs.202103235
- URN
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urn:nbn:de:101:1-2021101915135057391807
- Rechteinformation
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Open Access; Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
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15.08.2025, 07:36 MESZ
Datenpartner
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.
Beteiligte
- Tolvanen, Jarkko
- Nelo, Mikko
- Hannu, Jari
- Juuti, Jari
- Jantunen, Heli