Hochschulschrift

In-situ-Untersuchung des Wachstums von reaktiv gesputterten MoSx- und WSx-Schichten mit Hilfe der energiedispersiven Röntgenbeugung (EDXRD)

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Maße
21 cm
Umfang
VI, 200 S.
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Ill., graph. Darst.
Berlin, Freie Univ., Diss., 2003 (Nicht für den Austausch)

Schlagwort
Schichtgitterhalbleiter
Molybdänsulfide
Wolframsulfide
Schichtwachstum
Magnetronsputtern
Energiedispersive Röntgenbeugung

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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 14:12 MESZ

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

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