Hochschulschrift
Ionenbeschussinduzierte Effekte bei der Sputtertiefenprofilierung von Ta/Si-Vielschichtsystemen
- Location
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783861113805
3861113805
- Dimensions
-
21 cm
- Extent
-
134 S.
- Edition
-
Als Ms. gedr.
- Language
-
Deutsch
- Notes
-
graph. Darst.
Zugl.: Kaiserslautern, Univ., Diss., 1992
- Keyword
-
Tantal
Silicium
Mehrschichtsystem
Sputtern
Tiefenprofilmessung
- Event
-
Veröffentlichung
- (where)
-
Aachen
- (who)
-
Shaker
- (when)
-
1993
- Creator
-
Bachmann, Gerd
- Table of contents
- Rights
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Last update
-
11.06.2025, 1:57 PM CEST
Data provider
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Object type
- Hochschulschrift
Associated
- Bachmann, Gerd
- Shaker
Time of origin
- 1993
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