ALD-grown seed layers for electrochemical copper deposition integrated with different diffusion barrier systems
- Location
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Language
-
Englisch
- Notes
-
In: Microelectronic Engineering, 88, 2011, 5, S. 684-689, DOI: 10.1016/j.mee.2010.07.004
- Keyword
-
Beschichten
Verkupferung
Atomlagenabscheidung
Ruthenium
Kupfer
Metallisieren
Leiterbahn
ULSI
- Event
-
Veröffentlichung
- (where)
-
Chemnitz
- (who)
-
Universitätsbibliothek Chemnitz
- (when)
-
2011
- Event
-
Veröffentlichung
- (where)
-
Chemnitz
- (who)
-
Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS
- (when)
-
2011
- Event
-
Veröffentlichung
- (where)
-
Chemnitz
- (who)
-
Technische Universität Chemnitz
- (when)
-
2011
- Creator
-
Waechtler, Thomas
Ding, Shao-Feng
Hofmann, Lutz
Mothes, Robert
Xie, Qi
Oswald, Steffen
Detavernier, Christophe
Schulz, Stefan E.
Qu, Xin-Ping
Lang, Heinrich
Gessner, Thomas
- URN
-
urn:nbn:de:bsz:ch1-qucosa-68040
- Rights
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Last update
-
14.08.2025, 10:52 AM CEST
Data provider
This object is provided by:
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Associated
- Waechtler, Thomas
- Ding, Shao-Feng
- Hofmann, Lutz
- Mothes, Robert
- Xie, Qi
- Oswald, Steffen
- Detavernier, Christophe
- Schulz, Stefan E.
- Qu, Xin-Ping
- Lang, Heinrich
- Gessner, Thomas
- Universitätsbibliothek Chemnitz
- Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS
- Technische Universität Chemnitz
Time of origin
- 2011
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