- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISSN
-
2520-8128
- Umfang
-
Online-Ressource
- Sprache
-
Englisch
- Anmerkungen
-
online resource.
- Erschienen in
-
Comparison of EUV Photomask Metrology Between CD-AFM and TEM ; day:3 ; month:2 ; year:2022 ; pages:1-10
Nanomanufacturing and metrology ; (3.2.2022), 1-10
- Urheber
-
Dai, Gaoliang
Hahm, Kai
Sebastian, Lipfert
Heidelmann, Markus
- Beteiligte Personen und Organisationen
-
SpringerLink (Online service)
- DOI
-
10.1007/s41871-022-00124-y
- URN
-
urn:nbn:de:101:1-2022051218450234165134
- Rechteinformation
-
Open Access; Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
15.08.2025, 07:31 MESZ
Datenpartner
Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
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Beteiligte
- Dai, Gaoliang
- Hahm, Kai
- Sebastian, Lipfert
- Heidelmann, Markus
- SpringerLink (Online service)
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