Bias-plasma Assisted RF Magnetron Sputter Deposition of Hydrogen-less Amorphous Silicon

Location
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Extent
Online-Ressource
Language
Englisch

Bibliographic citation
In: Energy Procedia ; 84 (2015). - S. 105-109. - eISSN 1876-6102

Classification
Physik

Event
Veröffentlichung
(where)
Konstanz
(who)
Bibliothek der Universität Konstanz
(when)
2016
Creator
Gerke, Sebastian
Hahn, Giso
Job, Reinhart
Terheiden, Barbara

URN
urn:nbn:de:bsz:352-0-327966
Rights
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Last update
14.08.2025, 10:48 AM CEST

Data provider

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  • Hahn, Giso
  • Job, Reinhart
  • Terheiden, Barbara
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Time of origin

  • 2016

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