Lithography-free fabrication of silicon nanowire and nanohole arrays by metal-assisted chemical etching

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
ISSN
1556-276X
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch
Anmerkungen
online resource.

Erschienen in
Lithography-free fabrication of silicon nanowire and nanohole arrays by metal-assisted chemical etching ; volume:8 ; number:1 ; day:4 ; month:4 ; year:2013 ; pages:1-8 ; date:12.2013
Nanoscale research letters ; 8, Heft 1 (4.4.2013), 1-8, 12.2013

Urheber
Liu, Ruiyuan
Zhang, Fute
Con, Celal
Cui, Bo
Sun, Baoquan
Beteiligte Personen und Organisationen
SpringerLink (Online service)

DOI
10.1186/1556-276X-8-155
URN
urn:nbn:de:101:1-2021081519203335633090
Rechteinformation
Open Access; Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
14.08.2025, 10:53 MESZ

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Beteiligte

  • Liu, Ruiyuan
  • Zhang, Fute
  • Con, Celal
  • Cui, Bo
  • Sun, Baoquan
  • SpringerLink (Online service)

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