Molecular dynamics modeling framework for overcoming nanoshape retention limits of imprint lithography
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISSN
-
2055-7434
- Umfang
-
Online-Ressource
- Sprache
-
Englisch
- Anmerkungen
-
online resource.
- Erschienen in
-
Molecular dynamics modeling framework for overcoming nanoshape retention limits of imprint lithography ; volume:4 ; number:1 ; day:23 ; month:4 ; year:2018 ; pages:1-10 ; date:12.2018
Microsystems & nanoengineering ; 4, Heft 1 (23.4.2018), 1-10, 12.2018
- Klassifikation
-
Physik
- Urheber
-
Cherala, Anshuman
- Beteiligte Personen und Organisationen
-
Sreenivasan, S. V.
SpringerLink (Online service)
- DOI
-
10.1038/s41378-018-0007-4
- URN
-
urn:nbn:de:101:1-2018082723084123776426
- Rechteinformation
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
15.08.2025, 07:38 MESZ
Datenpartner
Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
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Beteiligte
- Cherala, Anshuman
- Sreenivasan, S. V.
- SpringerLink (Online service)
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