Atomic-Layer-Deposition of Indium Oxide Nano-films for Thin-Film Transistors

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
ISSN
1556-276X
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch
Anmerkungen
online resource.

Erschienen in
Atomic-Layer-Deposition of Indium Oxide Nano-films for Thin-Film Transistors ; volume:13 ; number:1 ; day:9 ; month:1 ; year:2018 ; pages:1-8 ; date:12.2018
Nanoscale research letters ; 13, Heft 1 (9.1.2018), 1-8, 12.2018

Klassifikation
Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau

Urheber
Ma, Qian
Beteiligte Personen und Organisationen
Zheng, He-Mei
Shao, Yan
Zhu, Bao
Liu, Wen-Jun
Ding, Shi-Jin
Zhang, David Wei
SpringerLink (Online service)

DOI
10.1186/s11671-017-2414-0
URN
urn:nbn:de:1111-201803011641
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
14.08.2025, 11:00 MESZ

Datenpartner

Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.

Beteiligte

  • Ma, Qian
  • Zheng, He-Mei
  • Shao, Yan
  • Zhu, Bao
  • Liu, Wen-Jun
  • Ding, Shi-Jin
  • Zhang, David Wei
  • SpringerLink (Online service)

Ähnliche Objekte (12)