Atomic-Layer-Deposition of Indium Oxide Nano-films for Thin-Film Transistors
- Standort
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISSN
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1556-276X
- Umfang
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Online-Ressource
- Sprache
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Englisch
- Anmerkungen
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online resource.
- Erschienen in
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Atomic-Layer-Deposition of Indium Oxide Nano-films for Thin-Film Transistors ; volume:13 ; number:1 ; day:9 ; month:1 ; year:2018 ; pages:1-8 ; date:12.2018
Nanoscale research letters ; 13, Heft 1 (9.1.2018), 1-8, 12.2018
- Klassifikation
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Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau
- Urheber
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Ma, Qian
- Beteiligte Personen und Organisationen
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Zheng, He-Mei
Shao, Yan
Zhu, Bao
Liu, Wen-Jun
Ding, Shi-Jin
Zhang, David Wei
SpringerLink (Online service)
- DOI
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10.1186/s11671-017-2414-0
- URN
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urn:nbn:de:1111-201803011641
- Rechteinformation
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Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
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14.08.2025, 11:00 MESZ
Datenpartner
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Beteiligte
- Ma, Qian
- Zheng, He-Mei
- Shao, Yan
- Zhu, Bao
- Liu, Wen-Jun
- Ding, Shi-Jin
- Zhang, David Wei
- SpringerLink (Online service)