Effects on selective epitaxial growth of strained-SiGe p-MOSFETs on various (001) Si recess structures

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
ISSN
2251-7235
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch
Anmerkungen
online resource.

Erschienen in
Effects on selective epitaxial growth of strained-SiGe p-MOSFETs on various (001) Si recess structures ; volume:11 ; number:4 ; day:30 ; month:1 ; year:2018 ; pages:313-317 ; date:12.2017
Journal of theoretical and applied physics ; 11, Heft 4 (30.1.2018), 313-317, 12.2017

Klassifikation
Physik

Urheber
Hong, Min-Hao
Beteiligte Personen und Organisationen
Perng, Dung-Ching
SpringerLink (Online service)

DOI
10.1007/s40094-018-0272-5
URN
urn:nbn:de:1111-201805171796
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
14.08.2025, 11:00 MESZ

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Beteiligte

  • Hong, Min-Hao
  • Perng, Dung-Ching
  • SpringerLink (Online service)

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