Anfangsstadien der thermischen Nitridation der Silizium-(100)-Oberfläche unter Verwendung von Ammoniak und Stickstoffmonoxid
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
IV, 103 S.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
graph. Darst.
München, Univ., Diss., 1993
- Schlagwort
-
Silicium
Kristallfläche
Siliciumnitrid
Dünne Schicht
Schichtwachstum
Photoelektronenspektroskopie
- Urheber
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
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- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 14:23 MESZ
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