Hochschulschrift
Einfluss von Ringen und (Si-Si)-Bindungen auf die lokale elektronische Zustandsdichte von amorphem SiO2 [SiO]
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Maße
-
30 cm
- Umfang
-
105, XLIV Bl., Anh.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
graph. Darst.
Berlin, Akad. d. Wiss. d. DDR, Diss. A, 1985 (Nicht f.d. Austausch)
- Urheber
-
Grafe, Thomas
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 14:01 MESZ
Datenpartner
Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.
Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Grafe, Thomas
Ähnliche Objekte (12)
![Modellierung einer Niederdruckabscheidung von SiO2 [SiO]](/assets/placeholder/searchResultMediaNoDigitisedMedia.png)
Modellierung einer Niederdruckabscheidung von SiO2 [SiO]
Elektronenzustände atomarer Eigendefekte des nichtkristallinen SiO2 [SiO]
Korrosionsversuche im System SiO2 [SiO] - Na2O [NaO]
Zur Theorie thermisch stimulierter Prozesse in Isolatoren (SiO2 [SiO])
Ein Nachweis der zeitabhängigen Wärmekapazität am amorphen SiO2 [SiO]
Thermochemische Untersuchungen im System SiO'2 und Na2O - SiO2
Aluminothermische Reaktionen von SiO2 [SiO] und ZrSiO4 [ZrSiO] zur Erzeugung oxinitridischer Werkstoffe
Ein Beitrag zur Si-O - Bindung
Herstellung und Eigenschaften kathodisch aufgestäubter SiO2- [SiO-] und SiO2-polySi-Schichten [SiO-polySi-Schichten] für die MOS-Technologie
Fourier-Transform-IR-spektroskopische Charakterisierung der Oberfläche von hochdispersem SiO2 [SiO]
Zum Ladungstransport im Oberflächenbereich ionenleitender Oxide, untersucht am Beispiel des SiO2 [SiO]
Oxidische Phasen des Chromiums auf SiO2 [SiO] : Präparation, Struktur und katalytische Eigenschaften
Modellierung einer Niederdruckabscheidung von SiO2 [SiO]
Elektronenzustände atomarer Eigendefekte des nichtkristallinen SiO2 [SiO]
Korrosionsversuche im System SiO2 [SiO] - Na2O [NaO]
Zur Theorie thermisch stimulierter Prozesse in Isolatoren (SiO2 [SiO])
Ein Nachweis der zeitabhängigen Wärmekapazität am amorphen SiO2 [SiO]
Thermochemische Untersuchungen im System SiO'2 und Na2O - SiO2
Aluminothermische Reaktionen von SiO2 [SiO] und ZrSiO4 [ZrSiO] zur Erzeugung oxinitridischer Werkstoffe
Ein Beitrag zur Si-O - Bindung
Herstellung und Eigenschaften kathodisch aufgestäubter SiO2- [SiO-] und SiO2-polySi-Schichten [SiO-polySi-Schichten] für die MOS-Technologie
Fourier-Transform-IR-spektroskopische Charakterisierung der Oberfläche von hochdispersem SiO2 [SiO]
Zum Ladungstransport im Oberflächenbereich ionenleitender Oxide, untersucht am Beispiel des SiO2 [SiO]
Oxidische Phasen des Chromiums auf SiO2 [SiO] : Präparation, Struktur und katalytische Eigenschaften
Modellierung einer Niederdruckabscheidung von SiO2 [SiO]
Elektronenzustände atomarer Eigendefekte des nichtkristallinen SiO2 [SiO]
Korrosionsversuche im System SiO2 [SiO] - Na2O [NaO]
Zur Theorie thermisch stimulierter Prozesse in Isolatoren (SiO2 [SiO])
Ein Nachweis der zeitabhängigen Wärmekapazität am amorphen SiO2 [SiO]
Thermochemische Untersuchungen im System SiO'2 und Na2O - SiO2
Aluminothermische Reaktionen von SiO2 [SiO] und ZrSiO4 [ZrSiO] zur Erzeugung oxinitridischer Werkstoffe
Ein Beitrag zur Si-O - Bindung
Herstellung und Eigenschaften kathodisch aufgestäubter SiO2- [SiO-] und SiO2-polySi-Schichten [SiO-polySi-Schichten] für die MOS-Technologie
Fourier-Transform-IR-spektroskopische Charakterisierung der Oberfläche von hochdispersem SiO2 [SiO]
Zum Ladungstransport im Oberflächenbereich ionenleitender Oxide, untersucht am Beispiel des SiO2 [SiO]